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CCD:CCD00010715

CAS:61790-53-2;7631-86-9;14808-60-7;63231-67-4;60676-86-0;112945-52-5;112926-00-8;68583-49-3;14464-46-1;68909-20-6;10279-57-9;1343-98-2;68855-54-9

MDL:MFCD00011232

MF / MW:O2 Si / 60.084

Synonyms:SILICA NANOSPRINGS COATED WITH ZINC OXIDE AND GROWN ON ALUMINUM FOIL SUBSTRATE (3.5 X 8CM);UNIFORM SILICA MICROSPHERES;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-NH2,粒径:2-3ΜM,单位:10MG/ML;SILICIC ANHYDRIDE;疏水型气相纳米二氧化硅HYDROPHOBIC-120型;SILICON(IV) OXIDE, FUMED;二氧化硅标准溶液;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-EPOXY,粒径:4-5ΜM,单位:10MG/ML;单分散二氧化硅微球,粒径:5.0ΜM,2.5% W/V;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-SIOH,粒径:4-5ΜM,单位:10MG/ML;疏水气相纳米二氧化硅,99.8%,比表面积（BET）：230M2/G;疏水气相纳米二氧化硅HYDROPHOBIC-100型,99.8%,比表面积（BET）：100M2/G;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-SIOH,粒径:1-2ΜM,单位:10MG/ML;二氧化硅,99.99% METALS BASIS,粒径:2ΜM;石英砂;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-EPOXY,粒径:2-3ΜM,单位:10MG/ML;SILICA GEL TEL-TALE DESICCANT, INDICATING;PHARMPREP(R) 60 CC;INFUSORIAL EARTH;DIOXOSILANE;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-NH2,粒径:3-4ΜM,单位10MG/ML;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-EPOXY,粒径:1-2ΜM,单位:10MG/ML;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-NH2,粒径:4-5ΜM,单位:10MG/ML;LUDOX(R) CL-X COLLOIDAL SILICA;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-SIOH,粒径:3-4ΜM,单位:10MG/ML;SILICA GEL ON TLC ALU FOILS;CELITE(R);SEA SAND;二氧化硅标准溶液,1000ΜG/ML,介质：0.05MOL/L NAOH;硅酸;MAGNETIC PARTICLES EMBEDDED IN SIO2;纳米二氧化硅;介孔二氧化硅比表面积、总孔容及孔径标准物质;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-EPOXY,粒径:4-5ΜM,单位:10MG/ML;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-SIOH,粒径:0.1-1ΜM,单位:5MG/ML;SILICA GEL 40;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-COOH,粒径:3-4ΜM,单位:10MG/ML;二氧化硅,轻质AR;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-COOH,粒径:1-2ΜM,单位:10MG/ML;CELITE(R) 521;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-SIOH,粒径:2-3ΜM,单位:10MG/ML;单分散二氧化硅微球;TLC-SILICA GEL 60 GF254;SILICIC ACID PRECIPITATED, 99%;SILICAGEL LC100A;SILICAGEL 60A;DRYING AGENT SILICA GEL PS;亲水气相纳米二氧化硅HYDROPHILIC-200B型,99.8%,比表面积（BET）：200M2/G;NANO FUMED SILICA;CELATOM;DESICCANT;SILICA GEL 60 H;亲水性气相纳米二氧化硅HYDR,99.8%,比表面积（BET）：300M2/G;SILICA GEL DESICCANT, INDICATING;LUDOX(R) TMA COLLOIDAL SILICA;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-NH2,粒径:0.1-1ΜM,单位:5MG/ML;SILICA GEL SELF INDICATING BLUE;疏水性气相纳米二氧化硅HYDROPHOBIC-115型;SILICA WOOL;DIATOMITE;SILICA GEL RUBIN;气相二氧化硅;SILICA, FUMED;SILICA GEL 100;FUMED SILICA;SAND;DESICCANT NON-INDICATING;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-NH2,粒径:3-4ΜM,单位:10MG/ML;二氧化硅(石英);SLC CORE-SHELL MONODISPERSED MAGNETIC SILICA MICROSPHERES;SILICON DIOXIDE BEADS;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-SIOH,粒径:3-4ΜM,单位:10MG/ML;SILICA 60;PRECIPITATED SILICIC ACID;单分散二氧化硅微球,粒径:500NM,2.5% W/V;WHITE QUARTZ;PHOSPHOROUS SILICA;LICHROSORB(R) SI 60;SYTON(R) HT-50;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-COOH,粒径:0.1-1ΜM,单位:5MG/ML;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-NH2,粒径:4-5ΜM,单位10MG/ML;高纯度硅胶;SILICA SAND;THERMAL ANALYSIS-SILICON DIOXIDE;SILICON(IV) OXIDE;二氧化硅,SP;SILICA GEL PURIFIED ON TLC-PET-FOILS;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,;COLLOIDAL SILICA;LUDOX(R) CL COLLOIDAL SILICA;LUDOX(R) LS COLLOIDAL SILICA;单分散二氧化硅微球,粒径:10.0ΜM,2.5% W/V;SIO2/SI;SILICAGEL 60A 60-200U;单分散二氧化硅微球,粒径:3.0ΜM,2.5% W/V;疏水气相纳米二氧化硅HYDRO,99.8%,比表面积（BET）：170M2/G;单分散二氧化硅微球,粒径:4.0ΜM,2.5% W/V;单分散氨基二氧化硅微球,粒径:300NM,2.5% W/V;LUDOX(R) HS-30 COLLOIDAL SILICA;LUDOX(R) SM COLLOIDAL SILICA;SILICA NANOSPRINGS COATED WITH ZINC OXIDE AND GROWN ON GLASS SLIDE SUBSTRATE (2.5 X 7.5CM);二氧化硅(无定形的二氧化硅);单分散氨基二氧化硅微球;BLUE GEL DESICCANT;LUDOX(R) HS-40 COLLODIAL SILICA;二氧化硅晶体,99.999%,直径2MM,高度10MM,圆柱体状;SILICA NO 2;二氧化硅;CAB-O-SIL M-5;SILICA, MESOSTRUCTURED;SILICON DIOXIDE SOLUTION;SILICA FUME;亲水型气相纳米二氧化硅HYDROPHILIC-300型;SILICA GEL WHITE;疏水气相纳米二氧化硅HYDROPHOBIC-230型;单分散羧基二氧化硅微球;疏水气相纳米二氧化硅HYDRO,99.8%,比表面积（BET）：120M2/G;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-COOH,粒径:2-3ΜM,单位:10MG/ML;亲水性气相纳米二氧化硅HYDROPHILIC-380型;LICHROPREP(R) SI 60;SI 60;SILICA, HYDRATE(8CI,9CI);SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-EPOXY,粒径:2-3ΜM,单位:10MG/ML;石英片;COLLOIDAL SILICA (AMMONIUM TYPE);LICHROPREP(R) SI 100;BEADS BASED ON SILICON DIOXIDE, MICROSIZE;SILICA GLASS;SILICA GEL DESICCANT;SILICA NO 1;纳米二氧化硅,99.5%,15±5NM;SILICA NANOSPRINGS GROWN ON FIBER GLASS SUBSTRATE (3.5 X 8CM);AMORPHOUS SILICON;疏水气相纳米二氧化硅HYDROPHOBIC-100型;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-COOH,粒径:0.1-1ΜM,单位:5MG/ML;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-NH2,粒径:0.1-1ΜM,单位:5MG/ML;石英屑;SILICA GEL 60;SILICA,FUMED;二氧化硅/纳米二氧化硅;SILICA GEL;AMORPHOUS SILICA;单分散二氧化硅微球,粒径:2.0ΜM,2.5% W/V;氧化硅;单分散氨基二氧化硅微球,粒径:3.0ΜM,2.5% W/V;二氧化硅晶体;CELITE 546;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-EPOXY,粒径:3-4ΜM,单位:10MG/ML;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-COOH,粒径:3-4ΜM,单位:10MG/ML;石英砂,AR,6-10目或2-3MM;SILICA GEL ON TLC PET-FOILS;LUDOX(R) TM-50 COLLOIDAL SILICA;LUDOX(R) AS-40 COLLOIDAL SILICA;硅胶;CELITE(R) STANDARD SUPER-CEL(R);SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-NH2,粒径:1-2ΜM,单位:10MG/ML;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-EPOXY,粒径:3-4ΜM,单位:10MG/ML;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-EPOXY,粒径:1-2ΜM,单位:10MG/ML;DIATOMACEOUS EARTH;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-COOH,粒径:2-3ΜM,单位:10MG/ML;KIESELGUHR;单分散二氧化硅微球,粒径:1ΜM,2.5% W/V;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-SIOH,粒径:2-3ΜM,单位:10MG/ML;NANO SILICA GEL ADAMANT(TM) ON TLC PLATES;单分散二氧化硅微球,粒径:300NM,2.5% W/V;SILICA PREPARATION;LICHROSORB(R) SI 100;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-COOH,粒径:4-5ΜM,单位:10MG/ML;二氧化硅晶体,1-3MM 颗粒,99.999%;LUDOX(R) AM COLLOIDAL SILICA;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-COOH,粒径:1-2ΜM,单位:10MG/ML;LICHROSORB(R) 60;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-SIOH,粒径:1-2ΜM,单位:10MG/ML;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球;SILICA GEL 60 ADAMANT(TM) ON TLC PLATES;SILICA GEL 60 SILANIZED;KIESELGUHR, SODA ASH FLUX-CALCINED;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-SIOH,粒径:4-5ΜM,单位:10MG/ML;SILICAGEL LC60A;二氧化硅,99.99% METALS BASIS,粒径:10ΜM;二氧化硅标准溶液,100MG/L,基体:0.05%NA2CO3;亲水性气相纳米二氧化硅HYDROPHILIC-200型;POLY TLC PLATES: SILICA WITH FLUORESCENCE;MONODISPERESED SILICA MICROPHERES;高纯度硅胶,40-63ΜM ,60Å亲水性气相纳米二氧化硅HYDROPHILIC-150型,99.8%,比表面积（BET）：150M2/G;NANO SIO2;SILICA GEL 60 G;TLC SILICA GEL 60 H;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-NH2,粒径:1-2ΜM,单位:10MG/ML;SILICON OXIDE;SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-COOH,粒径:4-5ΜM,单位:10MG/ML;SILICA GEL NANO ADAMANT(TM) ON TLC PLATES;SILICA;MAGPREP(R) SILICA;FUMED COLLOIDAL SILICA;疏水性气相纳米二氧化硅HYDR,99.8%,比表面积（BET）：115M2/G;SILICON(IV) OXIDE, FUMED ACTIVITED;QUARTZ;热分析标准物质（二氧化硅）;亲水型气相纳米二氧化硅HYDROPHILIC-200型;二氧化硅,99.99% METALS BASIS,粒径:5ΜM;二氧化硅(高分散的二氧化硅);SILICA, COLLOIDAL;CRISTOBALITE;SLC 核壳式二氧化硅磁性微球;QUARTZ FINE;MICRO PARTICLES BASED ON SILICON DIOXIDE;CAB-O-SIL(R) M-5;SILICON DIOXIDE;疏水型气相纳米二氧化硅HYDROPHOBIC-170型;QUARTZ CHIPS;LUDOX(R) TM-40 COLLOIDAL SILICA;亲水性气相纳米二氧化硅HYDROPHILIC-150型;单分散二氧化硅微球,粒径:700NM,2.5% W/V;SILICA GEL ON TLC AL FOILS;石英砂,AR,8-16目或1-2MM;SILICA GEL PS DRYING AGENT;SILICA GEL ON TLC PLATES;LUDOX(R) AS-30 COLLOIDAL SILICA;SILICA NANOSPRINGS COATED WITH TITANIUM DIOXIDE AND GROWN ON ALUMINUM FOIL SUBSTRATE (3.5 X 8CM);SLE 包埋式二氧化硅磁性微球,基质:SIO2,表面基团:-NH2,粒径:2-3ΜM,单位:10MG/ML